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第五条 用户的权利和义务

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第六条 天美(中国)的权利和义务

6-1天美(中国)承诺对用户资料采取对外保密措施,不向第三方披露用户资料,不授权第三方使用用户资料,除非:

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6-1-3用户同意天美(中国)向第三方提供;

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6-2 天美(中国)有权利对用户进行审查并决定是否接受用户成为天美(中国)会员。

6-3 天美(中国)保留在用户违反国家、地方法律法规规定或违反本在线注册条款的情况下终止为用户提供服务并终止用户帐号的权利,并且在任何情况下,天美(中国)对任何间接、偶然、特殊及继起的损害不负责任。

 

第七条 服务的终止

7-1 用户有权随时申请终止其会员资格。

7-2用户违反国家、地方法律法规规定或违反本在线注册条款的情况下,天美(中国)提前通知用户后可以提前终止服务。

 

第八条 争议解决及法律适用

8-1 因本服务条款有关的一切争议,双方当事人应通过友好协商方式解决。如果协商未成,双方同意向天美(中国)主要经营地的人民法院起诉。

8-2 本注册条款的效力、解释、履行和争议的解决均适用中华人民共和国法律法规和计算机、互联网行业的规范。

 

第九条 不可抗力

9-1 因不可抗力或者其他意外事件,使得本条款履行不可能、不必要或者无意义的,遭受不可抗力、意外事件的一方不承担责任。

9-2 不可抗力、意外事件是指不能预见、不能克服并不能避免且对一方或双方当事人造成重大影响的客观事件,包括但不限于自然灾害如洪水、地震、瘟疫流行和风暴等以及社会事件如战争、动乱、政府行为等。

9-3 用户同意鉴于互联网的特殊性,黑客攻击、互联网连通中断或者系统故障等属于不可抗力,由此给用户或者第三方造成的损失不应由天美(中国)承担。

 

用户在此再次保证已经完全阅读并理解了上述会员注册条款并自愿正式进入天美(中国)会员在线注册程序。

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Surface science
Field Emission Transmission Electron Microscope

The HF-3300 is a 100-300 kV TEM/STEM/SEM powered by Hitachi's state-of-the-art cold field emission technology for high-brightness and high-energy resolution. Capabilities needed for daily material structural characterizations and analysis are provided. Unique electron optical designs include spatially resolved EELS and double biprism electron holography (special order). The simultaneous secondary electron imaging and STEM imaging reveal surface and bulk structures at the same time. A special version for gas environmental TEM or aberration-corrected microscopy is available.

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Hitachi Field Emission Transmission Electron Microscope HF-3300

Transmission Electron Microscope is an essential instrument in surface science. Hitachi HF3300 is a high resolution transmission electron microscope for most materials (metals, ceramics, etc.) samples. It can simplify the sample preparation, ensure high resolution, and also meet the requirements of high spatial resolution analysis. With the combination of EELS and nanobeam diffraction function, the distribution of nanoscale elements and crystal structure can be studied. The unique analytical capabilities and user-friendly operation also greatly expand its application fields.


Features:

·   High-brightness Cold Field Emission (Cold FE) electron source

Cold field emission electron source benefits nanoscale analysis with its high brightness and high-energy resolution. Its inherent high coherency greatly contributes to ultra-high resolution imaging and electron holography.

·   300 kV accelerating voltage

A 300 kV accelerating voltage allows atomic-resolution imaging for thick specimens. Metals and ceramics with high atomic numbers are less electron transparent and often need to be observed at a 300 kV accelerating voltage.

·   Unique analytical capabilities

The newly introduced spatially resolved EELS and the in-situ SEM/TEM imaging nanobeam electron diffraction provide sophisticated and unique analytical capabilities.

·   Holder linkage with the FIB system

The Hitachi-FIB-compatible specimen holder requires no tweezer handling of TEM grids between FIB fabrication and TEM observation and ensures high-throughput TEM analysis. Hitachi's unique specimen rotation holder enables real-time multidirectional structural analysis together with an STEM unit.

·   User-friendly operation

Windows-based TEM/STEM computer control, a motor-driven movable aperture, and a 5-axis motorized stage make the high-end TEM more accessible. It only takes 10 minutes to be high-voltage-ready and 1 minute for specimen exchange, providing high sample throughput for TEM analysis.


Specifications:

Items

Description

Electron source

W(310) cold field emission electron source

Accelerating voltage

300 kV, 200 kV*2, 100 kV*2

Resolution

Lattice

0.10 nm

Point-to-point

0.19 nm

Information limit

0.13 nm

Magnification

Low Mag mode

200 - 500×

High Mag mode

2,000 - 1,500,000×

Image rotation

±5° or less (High Mag mode, below 1,000,000×)

Specimen tilt

±15°

Camera length

300 - 3,000 mm



Application: Material Science, Semiconductors