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在以下条款中，"用户"是指向天美（中国）网站申请注册成为会员的个人或者单位。

用户同意此在线注册条款之效力如同用户亲自签字、盖章的书面条款一样，对用户具有法律约束力。 只有用户完全同意所有服务条款并完成注册程序，才能成为天美（中国）网站的正式会员用户。本注册条款自用户注册成功之日起在用户与天美（中国）之间产生法律效力。

 

第一条 提供个人信息

1-1 用户承诺并保证自己是具有完全民事行为能力和完全民事权利能力的自然人、法人、实体和组织。用户在此保证所填写的用户信息是真实、准确、完整、及时的，并且没有任何引人误解或者虚假的陈述，且保证天美（中国）可以通过用户所填写的联系方式与用户取得联系。

1-2用户承诺将及时更新其用户信息以维持信息的有效性。

1-3如果用户提供的资料或信息包含有不正确、不真实的信息，天美（中国）保留取消用户会员资格并随时结束为该用户提供服务的权利。

 

第二条 邮件通知

用户充分理解，天美（中国）将通过电子邮件的方式与注册会员保持联络及沟通，用户在此同意天美（中国）通过电子邮件方式向其发送包括会员信息、天美（中国）产品及服务信息在内的相关商业及非商业联络信息。

 

第三条 会员身份确认

3-1 用户注册成功后将得到一个用户名和密码，用户凭用户名和密码享受天美（中国）向其会员用户提供的产品和服务。

3-2 用户将对用户名和密码安全负全部责任，并且用户对以其用户名进行的所有活动和事件负全责。用户可以随时修改密码。

3-3 用户若发现任何非法使用用户帐号或存在安全漏洞的情况，请立即通告天美（中国）。

 

第四条 服务条款的修改和服务体系修订

天美（中国）有权在必要时修改服务条款，天美（中国）服务条款一旦发生变动，将会在重要页面上提示修改内容。如果不同意所改动的内容，用户可以主动取消获得的网络服务。如果用户继续使用天美（中国）网络服务，则视为接受服务条款的变动。

 

第五条 用户的权利和义务

5-1 用户有权利使用自己的用户名和密码随时登录天美（中国）网站访问需要的资源。

5-2用户保证不会利用技术或其他手段破坏及扰乱天美（中国）网站。

5-3用户应尊重天美（中国）网站及其他第三方的知识产权的合法权利，并保证在发生上述事件时尽力保护天美（中国）及其合作伙伴等免于因该等事件受到影响或损失；天美（中国）保留用户侵犯天美（中国）网站知识产权时终止向该用户提供服务的权利。

 

第六条 天美（中国）的权利和义务

6-1天美（中国）承诺对用户资料采取对外保密措施，不向第三方披露用户资料，不授权第三方使用用户资料，除非：

6-1-1依据法律法规的规定应当提供；

6-1-2行政、司法等有权部门要求天美（中国）提供；

6-1-3用户同意天美（中国）向第三方提供；

6-1-4天美各分子公司和代理商需要使用用户个人信息。

6-2 天美（中国）有权利对用户进行审查并决定是否接受用户成为天美（中国）会员。

6-3 天美（中国）保留在用户违反国家、地方法律法规规定或违反本在线注册条款的情况下终止为用户提供服务并终止用户帐号的权利，并且在任何情况下，天美（中国）对任何间接、偶然、特殊及继起的损害不负责任。

 

第七条 服务的终止

7-1 用户有权随时申请终止其会员资格。

7-2用户违反国家、地方法律法规规定或违反本在线注册条款的情况下，天美（中国）提前通知用户后可以提前终止服务。

 

第八条 争议解决及法律适用

8-1 因本服务条款有关的一切争议，双方当事人应通过友好协商方式解决。如果协商未成，双方同意向天美（中国）主要经营地的人民法院起诉。

8-2 本注册条款的效力、解释、履行和争议的解决均适用中华人民共和国法律法规和计算机、互联网行业的规范。

 

第九条 不可抗力

9-1 因不可抗力或者其他意外事件，使得本条款履行不可能、不必要或者无意义的，遭受不可抗力、意外事件的一方不承担责任。

9-2 不可抗力、意外事件是指不能预见、不能克服并不能避免且对一方或双方当事人造成重大影响的客观事件，包括但不限于自然灾害如洪水、地震、瘟疫流行和风暴等以及社会事件如战争、动乱、政府行为等。

9-3 用户同意鉴于互联网的特殊性，黑客攻击、互联网连通中断或者系统故障等属于不可抗力，由此给用户或者第三方造成的损失不应由天美（中国）承担。

 

用户在此再次保证已经完全阅读并理解了上述会员注册条款并自愿正式进入天美（中国）会员在线注册程序。

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Hitachi SU-70

  The Hitachi SU-70 Analytical Field Emission SEM combines the field proven stability, high current and brightness of the Schottky electron source with the ultra-high resolution required in a multitude of analytical applications. Designed with a semi-in-lens optical configuration, Hitachi's patented ExB technology provides a unique electron signal filtering and mixing system suited for today's demanding applications for research and development and multidiscipline studies. The SU-70 offers an industry-leading technology, quality, and reliability.

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Features:

l  Ultra High Resolution Imaging; 1 nm/15 kV, 1.6 nm/1 kV (with Beam Deceleration Mode)*

l  In-lens SE and BSE Signal Filtering and Mixing Mode

l  Sub Nanometer Level Surface Observation at Ultra Low Accelerating Voltages, Provides high resolution, sub nanometer level surface observation at ultra-low accelerating voltages down to 100 V by utilizing the electron beam deceleration function.

l  Maximum Probe Current of 100 nA or Greater Available with the Field Proven Schottky Electron Source. High current and high resolution conditions are optimized for analytical techniques such as EDS*, WDS*, EBSP*, CL*, and e-Beam lithography* for increased productivity and throughput.

l  EBSP Analysis In Field Free (FF) Mode: Hitachi's unique FF mode eliminates the projected magnetic field of the objective lens associated with semi-in-lens technology, and thereby eliminates artifacts during analysis of magnetic samples and with EBSP* applications.

l  Large Analytical Specimen Chamber: Designed to optimize the simultaneous analysis of a wide variety of analytical techniques such as EDS*, WDS*, EBSP*, CL* and e-Beam Lithography* by optimizing the analytical detector solid angle and maintaining high resolution.